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diglib / Diplomarbeiten / Physical characterization of low hydrogen plasma enhanced chemical vapor deposited silicon nitride
  • Autor
    • Pieber, Daniel
  • TitelPhysical characterization of low hydrogen plasma enhanced chemical vapor deposited silicon nitride
  • Datei
  • BeschreibungXIII, 98 Seiten
  • BeschreibungIllustrationen, Diagramme
  • ZugriffsrechteAuch außerhalb des TU-Netzes nutzbar

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