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diglib / Dissertationen / Entwicklung polymerbasierter Antireflexionsschichten zum Einsatz in der Photolithographie
  • Autor
    • Fimberger, Martin
  • TitelEntwicklung polymerbasierter Antireflexionsschichten zum Einsatz in der Photolithographie
  • Datei
  • Beschreibungxii, 140 Blätter
  • BeschreibungIllustrationen, Diagramme
  • ISBNFesteinband
  • ZugriffsrechteAuch außerhalb des TU-Netzes nutzbar

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