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diglib / Diplomarbeiten / Diffusionsbarrieren für die Kupfer-Silizium Grenzfläche in der Metallisierung von Leistungsfeldeffekttransistoren
  • Autor
    • Lassnig, Roman
  • TitelDiffusionsbarrieren für die Kupfer-Silizium Grenzfläche in der Metallisierung von Leistungsfeldeffekttransistoren
  • Datei
  • Erscheinungsjahr2012
  • BeschreibungII, 65 Bl.
  • BeschreibungIll., graph. Darst., Kt.
  • ZugriffsrechteAuch außerhalb des TU-Netzes nutzbar

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