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diglib / Diplomarbeiten / Deposition and characterization of Al(Ti)N thin films deposited by plasma enhanced atomic layer deposition
  • Autor
    • Krasa, Helmut
  • TitelDeposition and characterization of Al(Ti)N thin films deposited by plasma enhanced atomic layer deposition
  • Datei
  • Beschreibungxvi, 74 Seiten
  • BeschreibungIllustrationen, Diagramme
  • ZugriffsrechteAuch außerhalb des TU-Netzes nutzbar

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